skip to main content
Ngôn ngữ:
Giới hạn tìm kiếm: Giới hạn tìm kiếm: Dạng tài nguyên Hiển thị kết quả với: Hiển thị kết quả với: Chỉ mục

The Microstructures and Electrical Resistivity of (Al, Cr, Ti)FeCoNiOx High-Entropy Alloy Oxide Thin Films

Zhang-Yan, Hwang ; Chen, Swe-Kai

Advances in Materials Science and Engineering, 2015 [Tạp chí có phản biện]

ISSN: 16878434 ; E-ISSN: 16878442 ; DOI: 10.1155/2015/353140

Toàn văn sẵn có

Trích dẫn Trích dẫn bởi
  • Nhan đề:
    The Microstructures and Electrical Resistivity of (Al, Cr, Ti)FeCoNiOx High-Entropy Alloy Oxide Thin Films
  • Tác giả: Zhang-Yan, Hwang ; Chen, Swe-Kai
  • Chủ đề: Alloys ; Thin Films ; Annealing ; Aluminum ; Solid Solutions ; Grain Boundaries ; Cracks ; Morphology ; Titanium
  • Là 1 phần của: Advances in Materials Science and Engineering, 2015
  • Mô tả: The (Al, Cr, Ti)FeCoNi alloy thin films were deposited by PVD and using the equimolar targets with same compositions from the concept of high-entropy alloys. The thin films became metal oxide films after annealing at vacuum furnace for a period; and the resistivity of these thin films decreased sharply....
  • Ngôn ngữ: English
  • Số nhận dạng: ISSN: 16878434 ; E-ISSN: 16878442 ; DOI: 10.1155/2015/353140

Đang tìm Cơ sở dữ liệu bên ngoài...